400/5=80 г
400-80=320 г H₂O в 20% р=ре
х г 10% р-ра
0,1х г NaOH в 10% р=ре
80-0,1х г NaOH надо получить
2Na + 2H₂O =2NaOH + H₂
m2na=2*23=46 г
m2h₂o=2(2+16)=36 г
m2naoh=2(23+16+1)=80 г
m2h₂o*(80-0,1х)/m2naoh -участвует воды в реакции
36(80-0,1х)/80 -участвует воды в реакции
х-0,1х=0,9х г H₂O в 10% р=ре
320+36(80-0,1х)/80=0,9х
356*80=72х+3,6х
х=28480/75,6=376,72 г 10% р-ра
80-0,1х=80-37,67=42,3 г NaOH надо получить
42,3*m2na/m2naoh=42,3*46/80=24.33 г необходимо Na
Отв: 376,72 г 10% р-ра; 24.33 г необходимо Na
Біологічна роль кисню полягає в здатності підтримувати процеси дихання всіх живих організмів, вступати в реакції окиснення. Застосування кисню: дихання тварин, рослин, людини; ... кисень застосовують як окиснювач ракетного палива та під час хімічних реакцій.
Объяснение:
Біологічна роль кисню полягає в здатності підтримувати процеси дихання всіх живих організмів, вступати в реакції окиснення. Застосування кисню: дихання тварин, рослин, людини; ... кисень застосовують як окиснювач ракетного палива та під час хімічних реакцій.
{\displaystyle {\mathsf {SiO_{2}+2Mg\ \rightarrow \ 2MgO+Si}}}
При этом образуется аморфный кремний, имеющий вид бурого порошка[6].
В промышленности кремний технической чистоты получают, восстанавливая расплав SiO2 коксом при температуре около 1800 °C в руднотермических печах шахтного типа. Чистота полученного таким образом кремния может достигать99,9 % (основные примеси — углерод, металлы).
Возможна дальнейшая очистка кремния от примесей.
Очистка в лабораторных условиях может быть проведена путём предварительного получения силицида магния Mg2Si. Далее из силицида магния с соляной или уксусной кислот получают газообразный моносилан SiH4. Моносилан очищают ректификацией, сорбционными и др. методами, а затем разлагают на кремний и водород при температуре около 1000 °C.Очистка кремния в промышленных масштабах осуществляется путём непосредственного хлорирования кремния. При этом образуются соединения состава SiCl4, SiHCl3 и SiH2Cl2. Их различными очищают от примесей (как правило, перегонкой и диспропорционированием) и на заключительном этапе восстанавливают чистым водородом при температурах от 900 до 1100 °C.Разрабатываются более дешёвые, чистые и эффективные промышленные технологии очистки кремния. На 2010 г. к таковым можно отнести технологии очистки кремния с использованием фтора (вместо хлора); технологии, предусматривающие дистилляцию монооксида кремния; технологии, основанные на вытравливании примесей, концентрирующихся на межкристаллитных границах.
Содержание примесей в доочищенном кремнии может быть снижено до10−8—10−6 % по массе. Более подробно вопросы получения сверхчистого кремния рассмотрены в кремний.
получения кремния в чистом виде разработан Николаем Николаевичем Бекетовым.
В России технический кремний производится «ОК Русал» на заводах в г.Каменск-Уральский (Свердловская область) и г. Шелехов (Иркутская область); доочищенный по хлоридной технологии кремний производит группа «Nitol Solar» на заводе в г. Усолье-Сибирское.