Вещество — форма материи, в отличие от поля, обладающая массой покоя. Вещество состоит из частиц, среди которых чаще всего встречаются электроны, протоны и нейтроны. В смеси есть другие вещества, а чистое вещество без каких либо примесей. Понятие идеально чистое вещество имеет такой жеабстрактный характер, как, например, абсолютныйнуль температуры или идеальный газ, и получитьидеально чистое вещество также невозможно.Причиной этого являются ограничения кинетическогои термодинамического характера. Первоепроявляется в том, что скорость очистки веществ отпримеси прямо пропорциональна концентрации ипадает по мере ее уменьшения. Поэтому чем болеевысокой степени чистоты требуется получитьвещество, тем с большими затратами энергии ивремени это будет связано, т.е. снизить содержаниепримеси в 10 раз с 1 до 0,1%(по массе) можнонамного дешевле и быстрее, чем также в 10 раз, но с10-4 до 10-5%(по массе). Снижение на один порядоксодержания той или иной примеси, начиная с 10-3%(помассе), требует применения специальных методовочистки.
Вещество — форма материи, в отличие от поля, обладающая массой покоя. Вещество состоит из частиц, среди которых чаще всего встречаются электроны, протоны и нейтроны. В смеси есть другие вещества, а чистое вещество без каких либо примесей. Понятие идеально чистое вещество имеет такой жеабстрактный характер, как, например, абсолютныйнуль температуры или идеальный газ, и получитьидеально чистое вещество также невозможно.Причиной этого являются ограничения кинетическогои термодинамического характера. Первоепроявляется в том, что скорость очистки веществ отпримеси прямо пропорциональна концентрации ипадает по мере ее уменьшения. Поэтому чем болеевысокой степени чистоты требуется получитьвещество, тем с большими затратами энергии ивремени это будет связано, т.е. снизить содержаниепримеси в 10 раз с 1 до 0,1%(по массе) можнонамного дешевле и быстрее, чем также в 10 раз, но с10-4 до 10-5%(по массе). Снижение на один порядоксодержания той или иной примеси, начиная с 10-3%(помассе), требует применения специальных методовочистки.
Кислоти:HNO3 - нітратна кислота, H2SO4 - сульфатна кислота.
Солі: СuSO4 - купрум сульфат, Na3PO4 - натрій ортофосфат, NaCl - натрій хлорид.
Оксиди:CO - карбон(2) оксид, Fe2O3 - ферум (3) оксид.
Основи:Zn(OH)2 - цинк гідроксид, Mg(OH)2 - магній гідроксид.