Причина того, что мозг задействуется не в полную силу, а максимум на 10% в условиях кропотливого, тяжелого труда объясняется тем, что человеческий мозг постоянно эволюционирует, развивается, получает новые знания и совершенствует старые, по сути, как и сам человек, направлен на самосовершенствование. Поэтому мозг не может работать на все 100%, так как процесс развития бесконечен, то есть мозг может развиваться до бесконечности. А бесконечность не имеет границ. В состоянии спокойствия мозг работает на уровне порядка 2-3%. Однако в условиях возникновения критических ситуаций или аномальных явлений человеческий мозг может перепрыгивать свой максимальный пороговый уровень «мощности» (10%) в несколько раз. Также не стоит забывать, что мозг, в отличие от того же компьютера, является обработчиком чувственной информации человека. На свете существует не так уж много людей расширить границы повседневно используемого сознания.
При этом образуется аморфный кремний, имеющий вид бурого порошка[6].
В промышленности кремний технической чистоты получают, восстанавливая расплав SiO2 коксом при температуре около 1800 °C в руднотермических печах шахтного типа. Чистота полученного таким образом кремния может достигать99,9 % (основные примеси — углерод, металлы).
Возможна дальнейшая очистка кремния от примесей.
Очистка в лабораторных условиях может быть проведена путём предварительного получения силицида магния Mg2Si. Далее из силицида магния с соляной или уксусной кислот получают газообразный моносилан SiH4. Моносилан очищают ректификацией, сорбционными и др. методами, а затем разлагают на кремний и водород при температуре около 1000 °C.Очистка кремния в промышленных масштабах осуществляется путём непосредственного хлорирования кремния. При этом образуются соединения состава SiCl4, SiHCl3 и SiH2Cl2. Их различными очищают от примесей (как правило, перегонкой и диспропорционированием) и на заключительном этапе восстанавливают чистым водородом при температурах от 900 до 1100 °C.Разрабатываются более дешёвые, чистые и эффективные промышленные технологии очистки кремния. На 2010 г. к таковым можно отнести технологии очистки кремния с использованием фтора (вместо хлора); технологии, предусматривающие дистилляцию монооксида кремния; технологии, основанные на вытравливании примесей, концентрирующихся на межкристаллитных границах.
Содержание примесей в доочищенном кремнии может быть снижено до10−8—10−6 % по массе. Более подробно вопросы получения сверхчистого кремния рассмотрены в кремний.
получения кремния в чистом виде разработан Николаем Николаевичем Бекетовым.
В России технический кремний производится «ОК Русал» на заводах в г.Каменск-Уральский (Свердловская область) и г. Шелехов (Иркутская область); доочищенный по хлоридной технологии кремний производит группа «Nitol Solar» на заводе в г. Усолье-Сибирское.
8/358=0.022=2%